Synthesis Cam y Vapor Cemegol o Boron Nitride

Yn 1979, defnyddiodd Sokolowski dechnoleg plasma wedi'i pwls yn llwyddiannus i baratoi ffilmiau nitride diflas ciwbig (CBN) ar dymheredd isel a phwysau isel. Mae'r offer a ddefnyddir yn syml ac mae'r broses yn hawdd ei hailddosbarthu, felly mae wedi'i datblygu'n gyflym. Mae amrywiaeth o ddulliau dyddodion claddu wedi dod i'r amlwg. Yn draddodiadol, mae'n cyfeirio'n bennaf at adneuo claddfeydd cemegol thermol. Yn gyffredinol, mae'r ddyfais arbrofol yn cynnwys tiwb cwartz sy'n gwrthsefyll gwres a dyfais wresogi. Gall ffwrnais gwresogi (CVD wal boeth) neu wres ymsefydlu amledd uchel (CVD wal oer) gynhesu'r is-set. Mae'r nwy adwaith yn dadgodio ar wyneb yr is-set tymheredd uchel, ac ar yr un pryd, mae adwaith cemegol yn digwydd i adneuo ffilm. Mae'r nwy adwaith yn nwy cymysg o BCl₃neu B₂H₄ac NH₃.